产品简介：
       处理气量：（1-1500）Nm3/h
       压力：≤5.0Mpa
       氢气纯度：≥99.9995％
       露点：≤-70℃
       含氧量：≤1.5ppm
广泛应用于：
       熔硅单晶炉配套使用，激光器、溅射、半导体生产，气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门。